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标题: 光刻与刻蚀工艺解析 [打印本页]
作者: showmaker    时间: 2022-9-29 13:44
标题: 光刻与刻蚀工艺解析

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光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。
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在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成器件和电路结构。/ {# d' ]( B4 |3 q
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作者: Vincent_MH    时间: 2022-9-29 14:06
非常感谢分享
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作者: tutututut    时间: 2022-9-29 17:39
光刻机，刻蚀机
作者: 瞪郜望源_21    时间: 2022-9-30 12:35
不错不错，很是深度和专业，学习下
作者: awei1981    时间: 2022-10-26 22:50
学习一下，谢谢分享
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作者: Renlz    时间: 2023-7-27 00:24
非常感谢分享



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