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标题: 直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊 [打印本页]

作者: MrL1 时间: 2022-3-15 13:49
标题: 直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊

作者: rergr 时间: 2022-3-15 14:24
直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的

作者: dsgh 时间: 2022-3-15 14:57
直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材），并不局限于金属。譬如，对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层，造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法进行。这时候，就需要射频电源，简单的说，用射频电源的时候，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒。

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