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标题: 芯片光刻时，为何出现光刻效果不好？ [打印本页]

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作者: Ｄ.H    时间: 2021-3-3 13:05
标题: 芯片光刻时，为何出现光刻效果不好？
芯片光刻时，为何出现光刻效果不好？
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作者: srilri2    时间: 2021-3-3 13:55
显影是很关键的一部,显影液和光刻胶是接触式的反应,也是从上而下的作用。常用浸泡式和喷洒式。

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作者: zmmdmn    时间: 2021-3-3 14:24
涂覆的膜层比较薄,厚度均匀性也比较好,负胶比较厚,正胶的分辨率高于负胶,刻蚀工艺常用正胶、负胶做lift-off工艺较多。一般负胶也比同级别的正胶贵上不少。因此能用正胶的地方还是用正胶比较好。

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作者: Ｄ.H    时间: 2021-3-3 14:25

srilri2 发表于 2021-3-3 13:55
' m5 z* ]$ `' T) w3 L2 A- l/ _7 h显影是很关键的一部,显影液和光刻胶是接触式的反应,也是从上而下的作用。常用浸泡式和喷洒式。

谢谢回答

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