01 沉铜前的处理 1.去毛刺:沉铜前基板经过钻孔工序,此工序虽容易产生毛刺,它是造成劣质孔金属化的最重要的隐患。必须采用去毛刺工艺方法加以解决。通常采用机械方式,使孔边和内孔壁无倒刺或堵孔的现象产生. 2.除油污 3.粗化处理:主要保证金属镀层与基体之间良好的结合强度。 4.活化处理:主要形成“引发中心”,使铜沉积均匀一致。 02 孔壁镀层的空洞产生的原因: 1PTH造成的孔壁镀层空洞 (1)沉铜缸铜含量、氢氧化钠与甲醛的浓度 (2)槽液的温度 (3)活化液的控制 (4)清洗的温度 (5)整孔剂的使用温度、浓度与时间 (6)还原剂的使用温度、浓度与时间 (7)震荡器和摇摆 2图形转移造成的孔壁镀层空洞 (1)前处理刷板 (2)孔口残胶 (3)前处理微蚀 3图形电镀造成的孔壁镀层空洞 (1)图形电镀微蚀 (2)镀锡(铅锡)分散性差 造成镀层空洞的因素很多,最常见的是PTH镀层空洞,通过控制药水的相关工艺参数能有效的减少PTH镀层空洞的产生。但其它因素也不能忽视,只有通过细致的观察,了解到产生镀层空洞的原因及缺陷的特点,才能及时有效的解决问题,维护产品的品质。 |
关于我们|手机版|EDA365电子论坛网 ( 粤ICP备18020198号-1 )
GMT+8, 2025-7-31 08:11 , Processed in 0.109375 second(s), 27 queries , Gzip On.
地址:深圳市南山区科技生态园2栋A座805 电话:19926409050